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산·학·연 협력활동 프로그램안내

제2회 플라즈마 RF 기술연구회 워크숍
 
 *일시 : 2023년 10월 24일(화) 12:30 ~ 18:00
 *장소 :  과학기술컨벤션센터 대회의실2(B1F)(서울 강남구)
 *주최 : 한국반도체디스플레이기술학회(플라즈마 RF 기술연구회)

시 간 주 제 연 사
12:30~ 행사 등록 -
13:00~13:10 소개 및 연구회 회장 인사말 정진욱 교수
(연구회 회장)
13:10~13:40       반도체 장비의 최신 RF Plasma 기술 및 양산 난제  

최명수 부사장

                     (SK하이닉스)                      


13:40~14:10      반도체 공정에 적용되는 플라즈마 소스 현황과 미래

배근희 마스터

(삼성전자)
14:10~14:40

Development of PECVD Equipment for Low-k SiCOH

and Back Side Film Deposition

이승무 전무

(테스)
14:40~14:50 Break -
14:50~15:20 Plasma용 Power의 최신 응용 기술

강승하 상무

(AE Korea)


15:20~15:50 플라즈마 공정장비를 위한 최신 RF 제어 기술

김영도 부장

(램리서치)
15:50~16:20 고효율 ICP 라디칼 소스 기술

엄세훈 대표이사

(인투코어테크놀로지)
16:20~16:30 Break -
16:30~17:00 Helical 공진 플라즈마 기술

정진욱 교수

(한양대)
17:00~17:30 라디컬 측정을 위한 광흡수 분석 기술

문세연 교수

(전북대)
17:30~18:00 공정 플라즈마 단층 촬영을 위한 진단과 기술

박상후 교수

(KAIST)
- 연구회 마무리 인사말 정진욱 교수
(한양대)






  *상기 프로그램은 사정상 다소 변경될 수 있습니다.

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