프로그램안내

산·학·연 협력활동 프로그램안내

2024년 제3회 플라즈마 RF 기술연구회 워크숍
 
 *일시 : 2024년 4월 30일(화) 12:30 ~ 18:00
 *장소 :  과학기술컨벤션센터 대회의실2(B1F)(서울 강남구)

 *주최 : 한국반도체디스플레이기술학회(플라즈마 RF 기술연구회)

시 간 주 제 연 사
12:30~ 행사 등록 -
13:00~13:05 연구회 회장 인사말 정진욱 교수
(연구회 회장)
13:05~13:10      산업부 반도체PD 인사말

이정호 박사

                (한국산업기술기획평가원)                      



13:10~13:40        반도체 플라즈마 설비 기술

성덕용 부사장

(삼성전자) 

13:40~14:10

   지속가능 있는 반도체 공정을 위한 Plasma Etch에서의 ESG 방향성

서희찬 팀장

 (SK하이닉스)

14:10~14:30 대면적 플라즈마 소스 기술

양호식 전무

(원익IPS)

14:30~14:50 Break -
14:50~15:10 극저온 플라즈마 식각 기술

이선길 전무

(TEL)

15:10~15:30 차세대 플라즈마 공정을 위한 RF 기술

이동헌 대표이사

(RFPT)

15:30~15:50 최신 NAND 식각 기술의 동향

오정익 이사

(AMAT)



15:50~16:10

Practical Design of RF Antennas for Inductively Coupled 

Plasma Systems: Simulation-Based Approaches

김아람 책임

(PSK)

16:10~16:20 Break

-

16:20~16:40

RF Pulsing 기술의 기능 및 적용

배민근 차장

(램리서치코리아)

16:40~17:00 플라즈마 식각 장비 기술 개발 방향

김형준 상무

(세메스)

17:00~17:20 멀티 주파수 플라즈마 소스의 특성

정진욱 교수

(한양대)

17:20~17:40 Low Global Warming Gases for Plasma Etching Processes

채희엽 교수

(성균관대)

17:40~18:00 Quantum plus matching을  이용한 고속 임피던스 정합

엄기철 상무

(ASE)

- 마무리 -