산·학·연 협력활동

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프로그램안내

산·학·연 협력활동 프로그램안내

① 주제 : 반도체 공정 선도를 위한 플라즈마 RF 기술


② 일시 : 2025년 12월 12일(금) 13:00 ~ 18:00


③ 장소 : 과학기술컨벤션센터 대회의실2(B1F)(서울 강남구)


④ 주최 : 한국반도체디스플레이기술학회(플라즈마 RF기술연구회)


⑤ 후원 : 한양 스마트 반도체 연구원, 플라즈마 관련 회사


시 간

주제

연사

12:30~

행사 등록

-

13:00~13:10

연구회 회장 인사말

정진욱 교수

(한양대/연구회장)

13:10~13:40

디스플레이 박막 공법 및 플라즈마 응용

기술 현황

허명수 마스터

(삼성디스플레이)

13:40~14:10

TCAD-Driven Innovation in Plasma

Process R&D

권형철 TL

(SK하이닉스)

14:10~14:40

AI prediction 과 유지보수 자동화로

구현하는 미래형 스마트팹

박준홍 대표이사

(램리서치코리아)

14:40~15:00

Break

-

15:00~15:20

반도체 증착(CVD, ALD) 공정용 세라믹

히터의 구조 및 역할

장찬욱 박사

(미코세라믹스)

15:20~15:40

플라즈마 장비 설계 및 공정 해석을 위한 시뮬레이션 기법과 적용 사례

유동훈 이사

(KWT솔루션)

15:40~16:00

PEALD Multi-Gas pulsing Plasma Development by the advanced

fast matching speed.

신동옥 박사

(ASM)

16:00~16:20

CCP 장비의 비선형 sheath가 플라즈마 균일성에 미치는 영향

이해준 교수

(부산대)

16:20~16:40

Break

-

16:40~17:00

반도체 공정용 플라즈마 진단 기술

오세진 수석

(삼성전자)

17:00~17:20

자율 공정을 위한 플라즈마 제어기술

정진욱 교수

(한양대)

17:20~17:40

ECR plasma Etching Technology for Semiconductor Fabrication with Fine Pattern

윤기영 CPO

(히타치하이테크코리아)

17:40~18:00

플라즈마 장비 지능화를 위한 센서 솔루션

윤정식 단장

(한국핵융합에너지연구원)

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