산·학·연 협력활동

반도체·디스플레이협의체

MEMORY Academy

반도체장비·부품 Academy

반도체 AI 제조경영 Academy

ALP Academy

SSD 심포지움

공정진단제어 기술연구회 (워크숍)

연구장비 유지관리 기술연구회

플라즈마 RF 기술연구회

메모리 로드맵 포럼

개요

산·학·연 협력활동 개요

제5회 ALP Academy(ALP Academy 2025) 프로그램(내용소개)

주제

주요내용

ALD 이론

발표자 : 이정훈 선임연구원
(화학연)

표면에서 일어나는 self-limiting 반응을 기반으로한 atomic layer deposition(ALD) 증착 기술에 대해 설명하고, 차세대 반도체 소자 개발을 위한 기술인 Area-selective ALD(AS-ALD) 기술 기초 이론 및 반도체 디스플레이 응용을 위한 최신 연구 동향 소개한다.

공정 이론

발표자 : 이우재 교수
(부경대)

본 강연에서는 진공의 정의와 기초 개념, 진공의 범위 및 이를 구현하기 위한 다양한 진공 펌프 기술을 소개한다. 이어서 플라즈마의 정의와 발생 원리를 설명하고, 박막 공정에서 플라즈마가 갖는 역할과 활용를 살펴본다. 또한 원자층 증착법 (Atomic Layer Depositio, ALD) 장비를 중심으로 박막 공정 장비의 전체적인 구성과 주요 부품의 기능, 그리고 이들이 어떻게 상호 작용하여 박막 형성을 가능하게 하는지를 설명한다. 이를 통해 차세대 반도체 제조에 필요한 박막 공정 이해와 장비 기술의 기초를 제공한다.

ALE 이론

발표자: 남태욱 교수

(세종대)

반도체 공정이 미세화 되고 소자의 구조가 3차원으로 변화함에 따라 기존 식각 공정에서 구현하기 어려웠던 등방성 식각을 구현하기 위한 시도가 많이 되고 있다. 열화학 반응 기반 원자층 식각 공정은 자기제한 표면 반응을 기반으로 한 식각 반응으로써 높은 종횡비의 구조체에서 우수한 단차피복성 및 균일도를 확보할 수 있어 미래 반도체 식각 공정으로 특히 주목받고 있다. 현재까지 개발된 다양한 원자층 식각법의 메커니즘에 대해 알아보고, 이를 활용하여 반도체 공정에 어떻게 적용될 수 있는지를 알아보고자 한다.

Focus session

(차세대 AI 반도체 구현을 위한 PIM 소자 및 ALD 응용)

발표자: 이홍섭 교수

(경희대)

최근 대규모 인공지능(AI) 모델의 연산 수요가 폭발적으로 증가함에 따라, 기존 범용 하드웨어 기반의 학습·추론 과정에서는 막대한 전력 소모와 효율성 저하가 중요한 문제로 대두되고 있다. 이러한 한계를 극복하기 위해 차세대 AI 가속 하드웨어로서 Processing in Memory(PIM) 기술이 주목받고 있으며, 그 핵심 소자는 멤리스터와 멤트랜지스터이다. 본 발표에서는 이러한 소자의 특성과 함께 PIM 구현 과정에서 직면하는 대표적인 기술적 이슈를 살펴보고, 이를 해결하는 데 있어 원자층 증착기술이 기여할 수 있는 가능성과 역할을 논의하고자 한다.